China a construit un prototip de echipament EUV într-un laborator securizat din Shenzhen, conform Reuters, marcând un pas semnificativ în dezvoltarea litografiei EUV pentru tehnologia semiconductor. Proiectul, desfășurat în secret de ani de zile, arată o orientare clară spre independență tehnologică în domeniul cipurilor avansate.
Importanța litografiei EUV pentru viitorul semiconductorilor
Litografia EUV folosește fascicule de lumină ultravioletă extremă pentru a grava circuite sub 10 nm pe siliciu. Dimensiunile reduse permit cipuri mai rapide și mai eficiente, esențiale pentru aplicații AI și pentru smartphone‑uri de ultimă generație.
Proiectul secret din Shenzhen și stadiul actual al echipamentului EUV
Echipamentul EUV construit în Shenzhen ocupă aproape un etaj de producție și generează lumină EUV în fază de testare. Deși nu a fabricat încă cipuri funcționale, prototipul confirmă capacitatea de a produce sursa de lumină necesară pentru tehnologia semiconductor de vârf.
Componenta optică de precizie – principalele dificultăţi
– Optica de precizie, realizată cu oglinzi multicoat, rămâne cel mai mare obstacol.
– Sursa de lumină EUV necesită un vid extrem de ridicat și materiale rezistente la radiații.
– Controlul contaminării particulelor este crucial pentru reproducerea stabilă a cipurilor avansate.
Aceste challenge-uri explică de ce replicarea completă a echipamentului EUV a durat atât de mult.
Strategiile Chinei pentru a depăşi blocajele tehnologice
– Ingineri cu experiență în industria occidentală au fost recrutaţi pentru reverse‑engineering.
– Piese recuperate din echipamente vechi şi achiziţii pe piaţa secundară au completat lanţul de producție.
– Investiţii masive în cercetare şi dezvoltare au susţinut dezvoltarea independenţei tehnologice.
Termenele vizate și perspectivele pentru cipuri avansate în China
Guvernul chinez a indicat 2028 ca dată limită pentru producţia de cipuri funcţionale pe bază de litografie EUV, iar surse apropiate proiectului estimează 2030 ca termen realist. Acest program ar accelera comparativ cu prognozele analiştilor, care anticipau un decalaj de un deceniu sau mai mult.
Impactul geopolitic al unui echipament EUV operațional în China
Un echipament EUV funcţional ar reduce dependenţa de furnizori occidentali și ar diminua presiunea sancţiunilor. În plus, ar întări ecosistemul de producție internă, influenţând concurenţa globală în domeniul AI și al sistemelor militare.
Monitorizarea evoluţiilor în litografia EUV și în sectorul semiconductor rămâne esențială pentru înţelegerea impactului asupra pieţei AI și a echilibrului geopolitic.
